Physik Journal, März 2016

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F I R M E N P O R T R ÄT S
© 2016 Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim Physik Journal 15 (2016) Nr. 3 75
Wir entwickeln und fertigen Moleku-
larstrahlepitaxie (MBE) Anlagen und
Komponenten zur Abscheidung atomar
dünner Schichten im Ultrahochvakuum.
Die Produkte finden Anwendung bei
der Herstellung von Si-, GaAs- oder InP-
basierten Heterostrukturen, der Präpara-
tion von Nanostrukturen, in der Oxid-MBE
und bei der Abscheidung magnetischer
Schichtstrukturen, topologischer Isola-
toren, sowie von 2D-Materialien. Ferner
werden unsere Produkte bei der Her-
stellung von optoelektronischen Bau-
elementen und Dünnschichtsolarzellen
eingesetzt.
Die Firma wurde von Dr. Karl Eberl
1990 als Spin-off des Walter-Schottky-
Institutes der TU München gegründet
und hat ihren Sitz in Weil der Stadt bei
Stuttgart. Seit über 25 Jahren ist Dr. Eberl
MBE-Komponenten ein Begriff für
kompetente Beratung, kundenspezifische
Lösungen, hochwertige Produkte, und
sehr guten Service. Unsere Kunden sind
vorwiegend Universitäten, Forschungs-
einrichtungen und namhafte Firmen der
Halbleiterindustrie weltweit.
Um einen stets hohen Qualitätsstandard
sicherzustellen, werden alle Produkte im
firmeneigenen Büro- und Laborgebäude
von uns selbst entwickelt, hergestellt, um-
fangreich getestet und geprüft. Alle MBE-
Anlagen und Komponenten werden in
Reinraumumgebung gereinigt, montiert,
bei Extrembedingungen betrieben und
getestet.
Produktspektrum:
n MBE-Anlagen für III/V-, II/VI-
und SiGe-Halbleiter
n MBE-Anlagen für topologische
Isolatoren, Oxide und magnetische
Materialien
n Beschichtungsanlagen für
CIGS-Dünnschichtsolarzellen
n Substratmanipulatoren und -heizer
n Thermische Verdampfer,
Effusionszellen
n Ventil-„Cracker“-Zellen
n Verdampfer für organische
Materialien
n Elektronenstrahlverdampfer
n Gasquellen
n Linearverdampfer und
Punktquellen für industrielle
Beschichtungsanlagen
n Simulation von Beschichtungs-
prozessen zur Berechnung der Homoge-
nität, Materialzusammensetzung
und Effizienz
n Legieröfen / „Compact RTA“ Systeme
Josef-Beyerle-Str. 18/1 · 71263 Weil der Stadt
Tel.: +49 (0)7033 6937 0 · Fax: +49 (0)7033 6937 290
E-Mail: · Web:
Dr. Eberl MBE-Komponenten GmbH
Die Firma FOCUS ist ein eigentümerge-
führtes Unternehmen mit Sitz in Hün-
stetten bei Wiesbaden und in Leipzig.
Von den insgesamt 27 fest angestellten
Mitarbeitern haben mehr als die Hälfte
einen akademischen Abschluss, darunter
7 Physiker und 7 Dipl.-Ingenieure.
Wir bauen seit 26 Jahren wissenschaftliche
Geräte für die Elektronenspektrosko-
pie und Elektronenmikroskopie. Dazu
gehören Detektoren für die Elektronen-
Spin-Analyse (FERRUM, SPLEED), ein
Elektronenspektrometer inkl. Spinde-
tektor (EasySpin) und ein Photoelektro-
nenmikroskop (FOCUS PEEM), das mit
verschiedenen Energiefiltern im orts- und
winkelauflösenden Modus eingesetzt wird
(IEF-PEEM, TOF-PEEM). Der gemein-
sammit der Firma Scienta Omicron ent-
wickelte und patentierte bildgebende En-
ergiefilter IDEA in Kombination mit dem
FOCUS PEEM ist als NanoESCA bekannt
und setzt neue Maßstäbe für die energie-
aufgelöste Orts- und k-Raum-Abbildung.
Dies gilt neuerdings auch für Photoelek-
tronen hoher kinetischer Energien (bis
10 keV) und erschließt unter dem Begriff
HAXPEEM neue Anwendungsbereiche
für die zerstörungsfreie ortsauflösende
Elementanalyse von dünnen Schichten
bis zu 50 nm Tiefe.
Ein weiteres Geschäftsfeld ist seit einigen
Jahren das Elektronenstrahlschweißen mit
höchster Präzision. Bei der Mikro-Elektro-
nenstrahlschweißanlage MEBW-60 wird
der Elektronenstrahl mit hoher Leistung
(bis zu 2kW) zum Schweißen, Bohren und
zur Oberflächenmodifikation eingesetzt.
Gleichzeitig ermöglicht er, fein fokussiert
und mit entsprechend geringerer Leistung,
einen implementierten Rasterelektronen-
mikroskop-Modus (SEM). In unserer neu-
en LaVa-Anlage (Laser im Vakuum) setzen
wir alternativ auch den Laser zur Material-
bearbeitung im Vakuum ein.
Interessierten Firmen sowie Universitäten
und Forschungseinrichtungen bieten wir
über unseren JobShop günstigen Zugang
zum Leistungsspektrum MEBW-60 und
der LaVa, z. B. für den Bau wissenschaft-
licher Geräte.
Das wohl bekannteste FOCUS-Produkt
ist der UHV-Elektronenstoßverdampfer
EFM 3, der weltweit in mehr als 600
Forschergruppen eingesetzt wird. Mit
dem einzigartigen Kühl-und Steue-
rungskonzept bietet die Reihe der EFM-
Verdampfer (3, 3s, 3i, 4, 3T) einen extrem
weiten Temperaturbereich von ca. 150°C
(Moleküle)bis 3300°C (Wolfram) für das
jeweilige Verdampfungsmaterial unter
bestmöglichen UHV-Bedingungen.
Eines unseren neuestes Produkte, die dif-
ferenziell gepumpte Ionenquelle FDG 15,
bietet alle Leistungsdaten der bekannten,
aber nicht mehr am Markt verfügbaren,
ISE 10 (Leybold/Kremer/OMICRON)
und darüber hinaus eine leistungsstarke
Ionenoptik mit optionaler Flussregelung.
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